Gravure sèche (plasma ionique) :
- RIE, DRIE
- FIB (Focus Ion Beam)
- Matériaux : Silicium (max 6 pouces), Verre, Si3N4, LiNbO3,… (max 4 pouces)
Gravure humide :
- KOH, BHF
- vapeurs HF
Gravure sèche (plasma ionique) :
Gravure humide :
Lithographie UV & électronique Fabrication de masque de photolithographie
Dépôts de couches minces et épaisses
Microscope (MEB, optique, FIB), profilomètre mécanique Mesures spécifiques : Contraintes, indice optique, angle de contact
Femto Engineering | From science to society
15B avenue des Montboucons, 25030 Besançon Cedex
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