- Lithographie UV & électronique
- Fabrication de masque de photolithographie
Dépôt
Dépôts de couches minces et épaisses
Lithographie UV & électronique
Fabrication de masque de photolithographie
contact : florent.bassignot@femto-engineering.fr
Dépôts de couches minces et épaisses
Gravure sèche (plasma ionique) : RIE, DRIE FIB (Focus Ion Beam) Matériaux : Silicium (max 6 pouces), Verre, Si3N4, LiNbO3,…
Microscope (MEB, optique, FIB), profilomètre mécanique Mesures spécifiques : Contraintes, indice optique, angle de contact