FEMTO Engineering est un centre de R&D de la Fondation FC Innov
De la recherche à l’industrie
FEMTO Engineering est un centre de R&D de la Fondation FC Innov
Gravure sèche (plasma ionique) :
Gravure humide :
En plus de la gravure sur Silicium, nous avons mis au point différents procédés de gravure profonde de matériaux diélectriques en salle blanche :
| Matériaux gravés | Profondeur | Verticalité des flancs | Rugosité en fond de gravure |
| Verre | Jusqu’à 200 µm | 70° à 100 µm | Ra < 500nm |
| Quartz | Jusqu’à 200 µm | 85° à 100 µm | Ra < 10nm |
| Niobate de lithium | Jusqu’à 10 µm | 75° à 10 µm | Ra < 10nm |
Avantages :
– Gravure collective de motifs de résolution micrométrique avec des profondeurs pouvant atteindre la centaine de microns
– Nouvelles fonctionnalités pour vos dispositifs
– Amélioration des performances de vos dispositifs
Différentes applications sont visées:
– Structuration de canaux micro-fluidiques dans des matériaux biocompatibles (Verre…)
– Fabrication de guides d’onde optique dans des matériaux électro-optique (Niobate de Lithium…)
– Gravure de matériaux piézoélectriques pour dispositifs radiofréquences (Quartz…)
